MOS管主要的生產工藝流程：

1.將硅單晶切成大圓片，并加以研磨、拋光。

2.拋光后的片子經仔細清洗后，熱生長一層二氧化硅層。（一次氧化）

3.用光刻技術可除漏、源擴散窗口上的二氧化硅。（一次光刻）

4.進行選擇性的雜質擴散。

5.去處所有二氧化硅，重新生長一層質量良好的柵極二氧化硅層，并進行磷處理。（二次氧化+磷處理）

6.刻除漏、源引線窗口上的二氧化硅。（二次光刻）

7.在真空系統中蒸發(fā)鋁。（鋁蒸發(fā)）

8.反刻電極。

9.進行合金。

10.檢出性能良好的管芯，燒焊在管座上，鍵合引線。

11.監(jiān)察質量（中測）

12.封上管帽，噴漆。

13.總測。

14.打印，包裝。

以上是概括MOS管的生產工藝流程，具體操作起來都是非常復雜，且是耗時耗力的過程。

如下圖是其中一款MOS管結構圖